11月23日，據新華社了解，我國繼續對內資研發(fā)機構和外資研發(fā)中心采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅，其中8類(lèi)研發(fā)機構采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅。除此此外，《科技開(kāi)發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設備清單》中明確了四大類(lèi)別的設備。 上海自動(dòng)化儀表有限公司許大慶經(jīng)理介紹到WWW.shybdj6.net全額退還增值稅 惠及8類(lèi)研發(fā)機構 財政部、商務(wù)部、國家稅務(wù)總局近日印發(fā)《關(guān)于繼續執行研發(fā)機構采購設備增值稅政策的通知》， 《通知》明確，適用采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅政策的內資研發(fā)機構和外資研發(fā)中心包括： ?。ㄒ唬┛萍疾繒?huì )同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的科技體制改革過(guò)程中轉制為企業(yè)和進(jìn)入企業(yè)的主要從事科學(xué)研究和技術(shù)開(kāi)發(fā)工作的機構； ?。ǘ﹪野l(fā)展改革委會(huì )同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的國家工程研究中心； ?。ㄈ﹪野l(fā)展改革委會(huì )同財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心； ?。ㄋ模┛萍疾繒?huì )同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的國家重點(diǎn)實(shí)驗室和國家工程技術(shù)研究中心； ?。ㄎ澹﹪鴦?wù)院部委、直屬機構和省、自治區、直轄市、計劃單列市所屬專(zhuān)門(mén)從事科學(xué)研究工作的各類(lèi)科研院所； ?。﹪页姓J學(xué)歷的實(shí)施專(zhuān)科及以上高等學(xué)歷教育的高等學(xué)校； ?。ㄆ撸┓媳就ㄖ诙l規定的外資研發(fā)中心； ?。ò耍┴斦繒?huì )同國務(wù)院有關(guān)部門(mén)核定的其他科學(xué)研究機構、技術(shù)開(kāi)發(fā)機構和學(xué)校。 外資研發(fā)中心應滿(mǎn)足條件 《通知》明確，外資研發(fā)中心根據其設立時(shí)間應分別滿(mǎn)足下列條件： ?。ㄒ唬?009年9月30日及其之前設立的外資研發(fā)中心，應同時(shí)滿(mǎn)足下列條件： 1.研發(fā)費用標準：（1）對外資研發(fā)中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬(wàn)美元；作為公司內設部門(mén)或分公司的非獨立法人的，其研發(fā)總投入不低于500萬(wàn)美元；（2）企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于1000萬(wàn)元。 2.專(zhuān)職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。 3.設立以來(lái)累計購置的設備原值不低于1000萬(wàn)元。 ?。ǘ?009年10月1日及其之后設立的外資研發(fā)中心，應同時(shí)滿(mǎn)足下列條件： 1.研發(fā)費用標準：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬(wàn)美元；作為公司內設部門(mén)或分公司的非獨立法人的，其研發(fā)總投入不低于800萬(wàn)美元。 2.專(zhuān)職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。 3.設立以來(lái)累計購置的設備原值不低于2000萬(wàn)元。 外資研發(fā)中心須經(jīng)商務(wù)主管部門(mén)會(huì )同有關(guān)部門(mén)按照上述條件進(jìn)行資格審核認定。具體審核認定辦法見(jiàn)附件1。在2015年12月31日（含）以前，已取得退稅資格未滿(mǎn)2年暫不需要進(jìn)行資格復審的、按規定已復審合格的外資研發(fā)中心，在2015年12月31日享受退稅未滿(mǎn)2年的，可繼續享受至2年期滿(mǎn)。 經(jīng)認定的外資研發(fā)中心，因自身條件變化不再符合退稅資格的認定條件或發(fā)生涉稅違法行為的，不得享受退稅政策。 通知稱(chēng)，具體退稅管理辦法由國家稅務(wù)總局會(huì )同財政部另行制定。 《科技開(kāi)發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設備清單》明確四大類(lèi)別設備 一、實(shí)驗環(huán)境方面 (一)教學(xué)實(shí)驗儀器及裝置; (二)教學(xué)示教、演示儀器及裝置; (三)超凈設備(如換氣、滅菌、純水、凈化設備等); (四)特殊實(shí)驗環(huán)境設備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設備等); (五)特殊電源、光源設備; (六)清洗循環(huán)設備; (七)恒溫設備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等); (八)小型粉碎、研磨制備設備。 二、樣品制備設備和裝置 (一)特種泵類(lèi)(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動(dòng)泵、蝸輪泵、干泵等); (二)培養設備(如培養箱、發(fā)酵罐等); (三)微量取樣設備(如取樣器、精密天平等); (四)分離、純化、濃縮設備(如離心機、層析、色譜、萃取、結晶設備、旋轉蒸發(fā)器等); (五)氣體、液體、固體混合設備(如旋渦混合器等); (六)制氣設備、氣體壓縮設備; (七)專(zhuān)用制樣設備(如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等)，實(shí)驗用注射、擠出、造粒、膜壓設備;實(shí)驗室樣品前處理設備。 三、實(shí)驗室專(zhuān)用設備 (一)特殊照相和攝影設備(如水下、高空、高溫、低溫等); (二)科研飛機、船舶用關(guān)鍵設備; (三)特種數據記錄設備(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤(pán)機等); (四)材料科學(xué)專(zhuān)用設備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉換設備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實(shí)驗機等)，可靠性試驗設備，微電子加工設備，通信模擬仿真設備，通信環(huán)境試驗設備; (五)小型熔煉設備(如真空、粉末、電渣等)，特殊焊接設備; (六)小型染整、紡絲試驗專(zhuān)用設備; (七)電生理設備。 四、計算機工作站，中型、大型計算機。 | 
